Différences
Ci-dessous, les différences entre deux révisions de la page.
| Les deux révisions précédentes Révision précédente Prochaine révision | Révision précédente | ||
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equipements [2022/04/25 15:39] majjad |
equipements [2024/04/25 16:15] (Version actuelle) majjad |
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|---|---|---|---|
| Ligne 1: | Ligne 1: | ||
| ====== Nanofabrication : Equipments ====== | ====== Nanofabrication : Equipments ====== | ||
| - | ===== Thin film depostion: ===== | + | ===== Lithography Tools: ===== |
| + | MJB4 mask aligner\\ | ||
| + | MJB3 mask aligner\\ | ||
| + | µpg101 laser lithography\\ | ||
| + | Zeiss Supra 40 + Raith Elphy plus (EBL) | ||
| + | ===== Thin film depostion Tools: ===== | ||
| MEB550S ebeam Evaporator\\ | MEB550S ebeam Evaporator\\ | ||
| - | MEB300 Thermal Evaporator | + | MEB300 Thermal Evaporator\\ |
| + | EVA300 RF Sputtering | ||
| + | |||
| + | ===== Etching Tools: ===== | ||
| + | RIE-ICP plasmalab 80 plus\\ | ||
| + | IBE-SIMS Elletrovara | ||